煙臺電鍍鎳鍍液中銅離子雜質的去除方法多樣，需根據銅離子含量、鍍液狀態及生產需求選擇合適方法，以下是具體介紹：
煙臺電鍍鎳——鎳鍍液化學沉淀法：
喹啉酸沉淀法：加入約為含銅量兩倍（克分子比）的喹啉酸，使銅離子生成沉淀。過濾后，鍍液中銅含量可降至1mg/L以下。
亞鐵氰化鈉沉淀法：向鍍液中加入溶解好的亞鐵氰化鈉溶液，劇烈攪拌約30min，銅離子與亞鐵氰化鈉反應生成亞鐵氰化銅沉淀。過濾除去沉淀，即可試鍍。
QT或CF除銅劑處理法：在不斷攪拌下，緩緩加入1~2mg/L的商品QT或CF除銅劑，攪拌1~2h后，過濾除去紅棕色沉淀物。
煙臺電鍍鎳——鎳鍍液電解法：
低電流密度電解：用低電流密度（如0.05~0.1A/dm2）使鍍液中的銅離子沉積在處理陰板上。陰板可采用波紋板、鋸齒板和平面板三種型式，其中波紋板能使銅離子和其他金屬雜質同時沉積，達到去除多種雜質的目的。
電解條件控制：電解處理時，電流密度、溫度和pH值的選擇需根據電鍍時雜質起不良影響的范圍確定。例如，去除鍍鎳溶液中的銅雜質時，可選用低pH進行電解，以提高去除雜質的速率。
煙臺電鍍鎳——鎳鍍液掩蔽劑處理法：
中間體掩蔽劑：常用的中間體有PN（羥甲基磺酸鈉）、SSO（羥丙基硫代硫酸鈉）、ATP（S-羧乙基異硫脲鈉氯化物）等。這些中間體能絡合銅、鋅、鉛等金屬離子，掩蔽少量銅及其他雜質，不必過濾，可立即消除銅等雜質在低電流密度區的發灰、發黑現象。
掩蔽劑添加量：掩蔽劑的添加量需根據雜質含量確定。例如，PN的用量為0.01~0.1g/L，SSO的用量為0.001~0.02g/L，ATP的用量為0.001~0.01g/L。