煙臺電鍍氮化硼是一種將氮化硼顆粒通過電鍍的方式沉積在基體表面的技術(shù)，能賦予基體材料優(yōu)異的性能，其技術(shù)原理主要涉及電化學(xué)原理和氮化硼顆粒的共沉積機(jī)制。
電化學(xué)基礎(chǔ)：
電鍍過程本質(zhì)上是一個電化學(xué)氧化還原反應(yīng)。在煙臺電鍍氮化硼體系中，通常采用含有金屬離子（如鎳離子）和氮化硼顆粒的電鍍液。電鍍槽中設(shè)置陽極和陰極，陽極一般由待沉積金屬制成，陰極則是需要鍍覆氮化硼涂層的基體材料。當(dāng)通入直流電時，陽極發(fā)生氧化反應(yīng)，金屬失去電子變成離子進(jìn)入電鍍液；而陰極發(fā)生還原反應(yīng)，電鍍液中的金屬離子得到電子在陰極表面還原成金屬原子，并逐漸沉積形成金屬鍍層。
氮化硼顆粒的分散與懸浮：
要讓氮化硼顆粒能夠均勻地沉積在基體表面，首先要保證其在電鍍液中能夠良好地分散和懸浮。氮化硼顆粒具有疏水性，在水中容易團(tuán)聚。因此，需要對電鍍液進(jìn)行特殊處理，添加適量的分散劑和表面活性劑。分散劑能夠吸附在氮化硼顆粒表面，改變其表面電荷分布，使顆粒之間產(chǎn)生靜電斥力，從而防止顆粒團(tuán)聚；表面活性劑則可以降低電鍍液的表面張力，提高氮化硼顆粒在電鍍液中的潤濕性，使其更好地分散。
氮化硼顆粒的共沉積：
在煙臺電鍍氮化硼過程中，金屬離子在陰極還原沉積的同時，氮化硼顆粒在電場力、流體攪拌力等作用下向陰極表面移動，并被不斷生長的金屬鍍層捕獲，從而實現(xiàn)金屬與氮化硼顆粒的共沉積。通過控制煙臺電鍍氮化硼工藝參數(shù)，如電流密度、電鍍時間、電鍍液溫度以及氮化硼顆粒的濃度等，可以調(diào)節(jié)氮化硼顆粒在鍍層中的含量和分布，進(jìn)而獲得具有不同性能的氮化硼復(fù)合鍍層。